提到芯片,就不得不说光刻机,因为光刻机是生产制造芯片的必要设备,没有光刻机,就无法生产制造芯片。
全球范围内,仅有四家企业能够独立研发制造光刻机,但ASML的技术最先进。数据显示,ASML的光刻机基本占领了中高端市场。
尤其是EUV光刻机,更是成为7nm以下芯片的必要设备,就目前而言,还没有设备或者技术可以替代EUV光刻机。
遗憾的是,ASML的光刻机技术虽然先进,但其研发制造的EUV光刻机等设备却不能自由出货,国内厂商早就全款订购,至今都没有到货。
不仅如此,即便是三星、SK海力士以及英特尔等厂商想用EUV光刻机提升芯片工艺,结果也被拒绝了,因为ASML的EUV光刻机也不能安装出货到外企中国分厂。
可以说,ASML的EUV光刻机不能自由出货,已经成为阻碍芯片发展的主要绊脚石,而国内的上海微电子正在全力攻克深紫外光刻机,理论上可将芯片制程缩小至7nm。
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